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罗门哈斯新款研磨垫锁定CMP工艺应用 |
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| 来源：慧聪网 |
2006-10-6 |
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慧聪网化工讯：半导体产业之化学机械研磨(CMP)技术供货商─罗门哈斯电子材料(Rohm and Haas Electronic Materials)公司CMP Technologies事业部宣布推出两组新产品，包括VisionPad研磨垫系列的多款新产品，和全新的IC1000 AT系列研磨垫。这些新产品可满足先进半导体制造商持续提升化学机械研磨工艺技术和生产力的要求，同时为90纳米到45纳米的研磨应用提供各种不同选择。
新产品包括多款专为先进工艺而设计的VisionPad化学机械研磨垫，可进一步强化在2005年推出的VisionPad VP3100产品阵容。新研磨垫包括：VisionPad VP3200铜阻障层研磨垫，为受业界欢迎的VP3100研磨垫系列新产品，号称可大幅降低缺陷率；VisionPad铜阻障层平坦化研磨垫，可利用以降低缺陷率，达到IC1000的平坦化效能；EcoVision EV4000铜阻障层研磨垫，号称具备业界最低的缺陷率；以及VisionPad浅沟槽隔离(STI)研磨垫，亦可利用以降低缺陷率，达到IC1000的平坦化效能。
此外罗门哈斯还推出全新的IC1000 AT系列研磨垫，这款新产品透过多项创新的研磨垫功能来降低现有高产量工艺的缺陷率和持有成本。这些功能包括可缩短磨合期(break-in time)的超平坦设计、提高研磨侦测终点的稳定性(end-point)技术、可用于极端工艺条件的新黏着技术，以及能够延长产品寿命、进行边缘修正(edge correction)和减少缺陷率的独家沟槽设计。
罗门哈斯表示，这些产品将由该公司位于台湾的亚太制造与技术中心，和在美国的现有工厂，采用六标准差方法的质量与流程控管来进行生产制造与提供支持。IC1000 AT化学机械研磨垫可望在2007年第一季量产，而新的VisionPad系列产品则将陆续在今年第四季和明年第一季量产。该公司在新竹科学园区新设立的CMP Technologies亚太制造与技术中心，预计2006年12月开幕启用。 |
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